Prilagodljiv film aluminijevega nitrida

Visokozmogljivi prilagodljivi aluminijevi nitrid (ALN)

Odklenite delovanje naslednje stopnje v svojih elektronskih in optoelektronskih napravah z našimi naprednimi aluminijevimi nitridnimi (ALN) tankimi filmi. Kot funkcionalni material z izjemnimi lastnostmi naši filmi ALN zagotavljajo močno rešitev za toplotno upravljanje, električno izolacijo in zaščito površine. Specializirani smo za odlaganje visoke čistosti, prilagodljivih ALN filmov na različne keramične podlage , ki omogočajo inovacije v najzahtevnejših panogah.

Pregled izdelka

Tanki film aluminijevega nitrida (ALN) je zelo vsestranski material, znan po svoji edinstveni kombinaciji visoke toplotne prevodnosti, odlične električne izolacije, visoke trdote in vrhunske korozijske odpornosti. Te lastnosti so nepogrešljive komponente v sodobni mikroelektroniki. Ne glede na to, ali razvijate visokofrekvenčne mikrovalovne naprave, ojačevalnike moči ali napredne senzorje, so naši filmi ALN zasnovani za izboljšanje zmogljivosti, stabilnosti in življenjske dobe vaših izdelkov, kar zagotavlja kritično prednost na konkurenčnem trgu.

Ključne funkcije in prednosti

• Vrhunska toplotna prevodnost: učinkovito razprši toploto od aktivnih komponent, izboljšuje delovanje naprave in preprečuje toplotno odpoved.
• Odlična električna izolacija: Visoka dielektrična trdnost zagotavlja zanesljivo električno izolacijo, ključna za visokonapetostno in visokofrekvenčno uporabo.
• Izjemna trdota in trajnost: ponuja zaščitno plast, ki se upira obrabi, praskam in degradaciji okolja, ki podaljša operativno življenjsko dobo komponent.
• Visoka odpornost na korozijo: kemično stabilna in odporna na erozijo kislin in alkalij, kar zagotavlja zanesljivost v ostrih delovnih okoljih.
• Optična preglednost: ima dobre optične lastnosti, zaradi česar je primerna za aplikacije v optoelektronski embalaži , vključno z zaščitnimi prevlekami za leče in laserje.

Tehnične specifikacije

• Jedro gradivo: aluminijev nitrid z visoko čistočo (ALN)
• Metode odlaganja: brizganje magnetrona, fizično odlaganje hlapov (PVD)
• Prilagodljiva debelina: od 50 nanometrov do več mikrometrov, prilagojenih vaših posebnih zahtevah.
• Združljivost substrata: alumina (al₂o₃), silicij (SI), safir in drugi materiali na zahtevo.
• Toplotna prevodnost (film): običajno 140-200 w/mk, odvisno od debeline in kakovosti filma.
• Dielektrična trdnost: > 15 kV/mm
• Površinska hrapavost (RA): za zahtevne aplikacije je mogoče nadzorovati do <5 nm.

Scenariji prijave

Naši tanki filmi ALN so kritična tehnologija, ki omogoča, da se v različnih visokotehnoloških sektorjih:

• Mikroelektronika: Uporablja se kot izolacijska in toplotna plast v visokofrekvenčnih mikrovalovnih napravah, ojačevalnikih moči in za napredno keramično embalažo IC .
• Optoelectronics: Uporablja se kot zaščitna in funkcionalna prevleka za optične filme, laserske fasete z visoko močjo in UV-led.
• Senzorji: tvori osnovno funkcionalno ali zaščitno plast v tlačnih senzorjih z visoko stabilnostjo, temperaturnim senzorjem in napravah MEMS zaradi svoje trdote in kemične inertete.
• RF in mikrovalovna pečica: služi kot idealna dielektrična plast v komponentah za brezžično RF embalažo , ki zagotavlja celovitost signala in toplotno stabilnost.

Naš postopek prilagajanja

1. Analiza zahtev: Začnemo s podrobnim posvetovanjem, da razumemo vašo aplikacijo, cilje uspešnosti in specifikacije substrata.
2. Oblikovanje filma: Naši inženirji priporočajo optimalno debelino filma, način nanašanja in parametre procesa, da dosežete vaše cilje.
3. Odlaganje vzorca: Za ocenjevanje in testiranje izdelujemo začetne vzorce na vaših določenih podlagah.
4. Validacija uspešnosti: Vzorce preizkusite v svoji aplikaciji. Z vami sodelujemo pri izpopolnjevanju lastnosti filma, če je potrebno.
5. Proizvodnja prostornine: Po odobritvi prehajamo na razširljivo, visoko obsežno proizvodnjo s strogim nadzorom kakovosti.

Ugodnosti za vaše podjetje

Vključevanje naših filmov ALN vam omogoča:

• Izboljšajte uspešnost izdelka: doseči večjo gostoto moči in boljšo celovitost signala.
• Izboljšajte zanesljivost: povečajte življenjsko dobo svojih komponent z vrhunsko toplotno in fizično zaščito.
• Omogoči miniaturizacijo: učinkovitejše toplotno upravljanje omogoča bolj kompaktne in integrirane modele.
• Pospešite inovacije: izkoristite napredne lastnosti ALN za razvoj izdelkov nove generacije.

Pogosto zastavljena vprašanja (pogosta vprašanja)

Kaj je glavna prednost uporabe filma ALN nad drugimi dielektriki?

Glavna prednost filma ALN je njegova edinstvena kombinacija visoke toplotne prevodnosti in visoke električne upornosti. Za razliko od mnogih materialov, ki so toplotno prevodni ali električno izolirajoči, se ALN odlikuje na obeh, zaradi česar je idealen za upravljanje toplote v elektronskih komponentah.

Ali lahko vzorčite film ALN?

Da, z vami lahko sodelujemo pri doseganju vzorčnih filmov ALN z uporabo standardnih fotolitografije in jedkanice. Prosimo, navedite svoje oblikovalske datoteke za podroben pregled.

Kakšen je tipičen čas za nalaganje filma po meri?

Čas svinca se razlikuje glede na zapletenost in glasnost. Prototipizacija in vzorčni vožnji običajno trajajo 2-4 tedne. Podrobno bomo zagotovili vaš formalni citat.

Naročanje in logistika

Model št.: 002
Vrste materiala: predvsem film ALN na aluminskih podlagah. Na voljo so drugi materiali za substrat.
Keramične vrste: elektrotermalna keramika, visokofrekvenčna keramika, piezoelektrična keramika
Minimalna količina naročila (MOQ): 5 kosov
Embalaža: odposlana v varno embalažo čiste sobe, da se zagotovi celovitost filma.
Dostava: Globalne možnosti prek oceana, zemljišča in zraka.
Pogoji plačila: L/C, T/T, D/P
Incoterm: FOB

Pišite nam danes, da začnete svoj filmski projekt po meri in potisnite meje uspešnosti.